產(chǎn)品列表PRODUCTS LIST
SXL間歇式高剪切分散乳化機(jī)，是化妝品膏霜類產(chǎn)品的制造過程中*的一種設(shè)備，特別是在生產(chǎn)高檔次護(hù)膚品或產(chǎn)品時Z為適用。鍋體與物料接觸部份全部采用不銹鋼316L，使設(shè)備能夠達(dá)到GMP認(rèn)證標(biāo)準(zhǔn)
銀漿研磨分散機(jī),銀漿高剪切研磨分散機(jī),銀漿超高速研磨分散機(jī)采用先進(jìn)的三級定轉(zhuǎn)子技術(shù)，定轉(zhuǎn)子根據(jù)不同產(chǎn)品的需求有粗，中，細(xì)，超細(xì)等多個組合可供客戶選擇，為了增加剪切效果，CIK工程師在超細(xì)齒前面又加了一級三級錯齒的超細(xì)研磨頭，使銀漿超高速研磨分散機(jī)同時具備了研磨，分散，均質(zhì)，乳化等多個功能。可以將物料粒徑打的更細(xì)，分散的更均一。
高剪切粉液分散機(jī)GBI 2000適于有一個循環(huán)回路的批處理操作,直接安裝在容器底部。GBI 2000可吸入,泵送和在CIP條件下自動清洗。且擁有兩級設(shè)計(jì)的。
NK2000系列在線式膠體磨 研磨機(jī)專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計(jì)，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)要求。
乳液三級高剪切均質(zhì)機(jī) 乳化機(jī)具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。該設(shè)備可以適用于各種分散乳化工藝，也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液,懸浮液和膠體的均質(zhì)混合。
實(shí)驗(yàn)室膠體磨專為實(shí)驗(yàn)研發(fā)，模擬生產(chǎn)流程，給量產(chǎn)提供可靠地?cái)?shù)據(jù)論證。該中試型機(jī)器雨大型量產(chǎn)機(jī)型配置形同，切分散頭的種類機(jī)相應(yīng)的線速度亦相同，中式過程中的工藝參數(shù)在量產(chǎn)化之后不用重新調(diào)整，從而將機(jī)器型號升級過程中的風(fēng)險(xiǎn)降到Z低。
CRS2000三級超高速高剪切分散機(jī)、乳化機(jī)、均質(zhì)機(jī)、一體機(jī)，其剪切速率可以超過100.00 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到40m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強(qiáng)，乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設(shè)備,可以達(dá)到普通的高壓均質(zhì)機(jī)的400BAR壓力下的顆粒大小.
化妝品分散機(jī)、乳化機(jī)、均質(zhì)機(jī)CR2000系列具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。該設(shè)備可以適用于各種分散乳化工藝，也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液,懸浮液和膠體的均質(zhì)混合。高剪切分散乳化機(jī)由定/轉(zhuǎn)子系統(tǒng)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。
